離子鍍的種類有很多，常用的離子鍍是以蒸發鍍膜為基礎的，即在真空中使被蒸發物質氣化，在氣體離子或被蒸發物質離子沖擊作用的同時，哈默納科鍍膜諧波傳動CSG-14-50-GH-J6A把蒸發物蒸鍍在基體上。空心陰極離子鍍〔HCD)具有較多的*性。空心陰極放電離子鍍它是一種鍍膜效率高、膜層質量好的方法，目前已用于工業生產。

   3.離子注入加工

   離子注入是將工件放在離子注入機的真空靶中，在幾十至幾百千伏的電壓下，把所需元素的離子注入工件表面。離子注入工藝比較簡單。它不受熱力學限制，可以注入任何離子，而且注入量可以精確控制。注入的離子固溶于工件材料中，含量可達10%一40 %，注入深度可達1E}m甚至更深·

   由于離子注入本身是一種非平衡技術，它能在材料表面注入互不相溶的雜質而形成一般冶金工藝所無法制得的一些新的合金。不哈默納科鍍膜諧波傳動CSG-14-50-GH-J6A管基體性能如何，它可在不犧牲材料整體性能的前提下，使其表面性能優化，而且不產生任何顯著的尺寸變化。但是，離子注入的局限性在于它是一個直線轟擊表面的過程，不適合處理復雜的凹入的表面樣品。

   除了常規的離子注入工藝之外，近年來又發展了幾種新的工藝方法，如反沖注入法