離子源又稱離子槍，用以產生離子束流。其基本工作原理是將待電離氣體注入電離室，然后使氣態原子與電子發生碰撞而被電離，哈默納科粒子機械諧波LA-30B-10-F-L 從而得到等離子體。等離子體是多種離子的集合體，其中有帶電粒子和不帶電粒子，在宏觀上呈電中性。采用一個相對于等離子體為負電位的電極〔吸極)，將離子由等離子體中引出而形成離子束流，而后使其加速射向工件或靶材。對離子源的要求，首先是離子束有較大的有效工作區， 以滿足實際加工的需要。其次，離子源的中性損失要小。因為中性損失是指通向離子源的中性氣體未經電離而損失的那部分流量，它將直接給真空系統增加負擔。此外，還要求離子源的放電損失小，結構簡單，運行可靠等。

   根據離子束產生的方式和用途不同哈默納科粒子機械諧波LA-30B-10-F-L ，離子源有很多形式。常用的有考夫曼型離子源和雙等離子管型離子源。

三、離子束加工的應用

   目前，用于改變零件尺寸和表物理力學性能 的離子束加工技術主要有以下四種，即利用離子撞擊和濺射效應的離子束刻蝕、離子濺射鍍膜和離子鍍，以及利用離子注入效應的離子注入。